上海微电子展示新一代前道光刻机模型

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据IT之家报道，上海微电子装备（集团）股份有限公司在第九届中国国际进口博览会上展示了新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。该平台适配I-line与KrF技术路线，核心组件实现全链条自主可控。据上海微电子介绍，目前国产前道干式光刻机已在头部逻辑与存储产线长期运行，累计支持流片超千万片，设备有效运行率超过92%。