中科院DUV光刻机实现3nm突破
发生了什么
据SCMP Tech报道，中科院微电子所叶天春表示，利用DUV光刻机完成了堆叠纳米片通道GAA CMOS晶体管的早期集成，建立了亚3nm先进制造的新早期MOS晶体管工艺路径。此举是在ASML EUV设备受制裁背景下探索替代路径。
报道与来源
1 篇发布方数量不等于独立核验数量。同稿的多个入口保留在对应报道中。
来源关系与证据边界
按已记录的来源角色展示；连线仅表示原生身份流程确认的同稿入口，不表示独立佐证或跨报道引用。
- 来源报道1 个发布入口
据SCMP Tech报道，中科院微电子所叶天春表示，利用DUV光刻机完成了堆叠纳米片通道GAA CMOS晶体管的早期集成，建立了亚3nm先进制造的新早期MOS晶体管工艺路径。此举是在ASML EUV设备受制裁背景下探索替代路径。
发布方数量不等于独立核验数量。同稿的多个入口保留在对应报道中。
按已记录的来源角色展示；连线仅表示原生身份流程确认的同稿入口，不表示独立佐证或跨报道引用。