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ASML拟增30% EUV产能,蔡司扩产成瓶颈

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发生了什么

据EE Times报道,ASML在10月14日季度业绩中表示,正调查2028年额外制造产能,此前计划为2027年低NA EUV产能增加30%(从约65台增至更多)。部分客户已对2029和2030年的订单感兴趣。蔡司光学系统扩产是关键瓶颈,其生产能力和测量设备容量将影响ASML响应高需求的速度。ASML年报曾指出蔡司产能限制其制造光刻机数量。

2027年EUV产能增幅
30%
2026年EUV基数
约65台
DUV浸没式产能增幅
30%
DUV浸没式基数
约130台

进展与证据

只展示有原文依据的进展;报道时间与事件发生时间分别保留。

  1. ASML季度业绩公布扩产计划

    调查2028年额外产能,回应客户对2029-2030年订单兴趣

报道与来源

1 篇

发布方数量不等于独立核验数量。同稿的多个入口保留在对应报道中。

  1. EE Times来源报道

    ASML’s EUV Expansion Runs Through Zeiss

来源关系与证据边界

按已记录的来源角色展示;连线仅表示原生身份流程确认的同稿入口,不表示独立佐证或跨报道引用。

  1. 来源报道1 个发布入口