台积电三星承诺采购ASML High NA光刻机

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据CNBC Technology报道，全球两大芯片制造商台积电和三星已承诺使用ASML的High NA极紫外（EUV）光刻机。三星计划从2028年起使用该设备生产DRAM，并将在2030年采用该技术以扩展DRAM缩放路线图。台积电表示将利用该工具制造先进芯片，预计随着AI应用对复杂晶体管架构需求的增加，High NA机器的使用量将上升。此外，两家公司还将加入ASML的行业倡议，推进下一代12英寸光掩模技术。