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CSET报告:中国半导体设备份额变化

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发生了什么

据CSET 2026年9月15日发布的报告,2025年中国在全球半导体制造设备市场份额增长集中在 fabrication tools。离子注入机份额从约1%升至近4%(+2.8pp),沉积工具从约7%升至近10%(+2.4pp)。化学机械抛光(CMP)工具份额最强(12.6%),蚀刻清洁工具(10.2%)和沉积工具(9.8%)紧随其后,光刻机份额仍 negligible(0.2%)。

离子注入机份额
近4%
沉积工具份额
近10%

报道与来源

1 篇

发布方数量不等于独立核验数量。同稿的多个入口保留在对应报道中。

  1. CSET来源报道

    Inside Beijing’s Chipmaking Offensive, One Year On

来源关系与证据边界

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  1. 来源报道1 个发布入口