CSET报告:中国半导体设备份额变化
发生了什么
据CSET 2026年9月15日发布的报告,2025年中国在全球半导体制造设备市场份额增长集中在 fabrication tools。离子注入机份额从约1%升至近4%(+2.8pp),沉积工具从约7%升至近10%(+2.4pp)。化学机械抛光(CMP)工具份额最强(12.6%),蚀刻清洁工具(10.2%)和沉积工具(9.8%)紧随其后,光刻机份额仍 negligible(0.2%)。
- 离子注入机份额
- 近4%
- 沉积工具份额
- 近10%
报道与来源
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来源关系与证据边界
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