台积电三星承诺采购ASML High NA EUV光刻机

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据CNBC Technology报道，全球两大芯片制造商台积电和三星已承诺使用ASML的High NA极紫外（EUV）光刻机。该设备可打印更小更复杂的电路图案，单台成本约4亿美元。三星计划从2028年起使用该机器生产DRAM，并预计2030年采用该技术以扩展DRAM缩放路线图。台积电表示将使用这些工具制造先进芯片，其应用增长主要由AI应用所需的日益复杂的晶体管架构驱动。此前英特尔也已成为该技术的客户。分析师认为此举为ASML的未来增长提供了可见性。