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PVTW硅片表征方法提出

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发生了什么

Semiconductor Engineering提出PVTW硅片表征方法,结合ATE与SLT实现工作负载下芯片电气裕度测试。该方法在传统PVT基础上增加工作负载维度,通过混合表征架构整合ATE资源与SLT能力,提供ATE模式、SLT模式及组合模式三种工作方式,以分析芯片在实际工作环境下的电气特性。

报道与来源

1 篇

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  1. Semiconductor Engineering来源报道

    PVTW: Extending Silicon Characterization From PVT To Real-World Workload

来源关系与证据边界

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  1. 来源报道1 个发布入口