英特尔称制程差距缩小至10%以内

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据IT之家报道，英特尔首席技术官普什卡尔·拉纳德在采访中表示，英特尔与台积电在制程技术上的差距已缩小至10%以内，但在性能、功耗和面积密度等指标上仍存在几个百分点的差异。拉纳德强调，当前竞争重点已转向制造执行能力、良率及产能爬坡速度。此外，英特尔制造开发部门副总裁克里斯·奥斯指出，英特尔通过背面供电架构，使部分工艺层可使用High-NA EUV设备进行单次曝光。目前，英特尔已将High-NA EUV作为14A制程工艺设计工具包的可选方案提供给客户。