KU Leuven等研究干法沉积光刻胶特性

发生了什么

据Semiconductor Engineering报道，KU Leuven、Kunsan国立大学、Vrije Universiteit Brussel及Imec等机构的研究人员在《ACS Applied Materials & Interfaces》发表论文，探讨了干法沉积卤化非晶沸石咪唑酯骨架（a-ZIF）光刻胶的特性。研究发现，该类光刻胶在电子束曝光与极紫外（EUV）光刻下表现出明显的辐射源依赖性色调转换行为。此类干法沉积金属有机光刻胶被视为下一代半导体制造中先进图案化工艺的关键技术。