Imec推进CFET设备路线图至A3节点
发生了什么
据Semiconductor Engineering报道,Imec及其工业合作伙伴正致力于使基于互补场效应晶体管(CFET)的设备实现可制造性。通过垂直堆叠p型和n型MOS晶体管,标准单元可进一步缩小至3T,将经典CMOS逻辑路线图延伸至至少A3技术节点。目前 groundwork 已奠定,分为单片CFET(mCFET)和顺序CFET(sCFET)两种集成方法。
- 标准单元缩放
- 3T
- 目标技术节点
- A3
报道与来源
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- Semiconductor Engineering来源报道
Advancing The CFET-Based Device Roadmap: Novel Integration Modules And Standard Cell Configurations
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